65.00zł
PREPARAT C® – CZYSZCZENIE URZĄDZENIA
Preparat C służy do czyszczenia i prawidłowej konserwacji urządzenia AquaPeelH2 po każdym wykonanym zabiegu.
Preparat jest gotowy do użycia, nie wymaga rozrabiania.
Poznas nas bliżej @PCZK.BEAUTY
Wskazania i składniki aktywne
Preparat C służy do czyszczenia i prawidłowej konserwacji urządzenia AquaPeelH2 na koniec dnia.
Poprawna konserwacja urządzenia wpływa na jego żywotność i eliminuje możliwość wystąpienia usterki związanej z zanieczyszczeniem głowicy zabiegowej.
Składniki aktywne
OMON HYDRANTION, IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
Opakowanie
1 x 500 ml
Preparat jest gotowy do użycia, nie wymaga rozrabiania.
Zastosowanie
Zabiegi z wykorzystaniem urządzeń z serii AquaPeel H2 – więcej niż oczyszczanie wodorowe.
